Discreet: neue Versionen von Inferno, Flame und Flint
Zur US-Grafikmesse Siggraph stellt Discreet die Version 9 von Flame und Flint sowie die Version 6 von Inferno vor.
»Neue leistungsstarke Kreativ- und Workflow-Werkzeuge sowie erweiterte Editing-Funktionen« standen laut Discreet bei der Entwicklung der neuen Versionen im Vordergrund.
Wie üblich bieten die neuen Versionen der Systeme eine Vielzahl neuer Features, darunter ein neues Werkzeug für Warping und Morphing. Dieses ermöglicht den Anwendern laut Hersteller die genauere, bessere und kreativere Steuerung dieser Funktionen, eine integrierte Tracking-Funktion erlaubt es, zu einem späteren Zeitpunkt bestimmte Schritte wieder ändern zu können. Ebenfalls neu: 3D-LUTs, die sich aus Sicht des Herstellers besonders eignen, um unnötige Zeitverluste und Kosten ein zu sparen. Ein verbesserter automatisierter 3D-Tracker analysiert Clips, wählt die Tracking-Punkte aus und rechnet im Hintergrund, so dass sich der Anwender noch mehr auf seine Kreativaufgaben konzentrieren kann. Das ebenfalls neue Feature Clip History zeigt, wie Clips in der Postproduction aufgebaut und bearbeitet wurden, außerdem ermöglicht es einfachere und schnellere nachträgliche Veränderungen als das bisher möglich war.
Inferno 6 ist für die Onyx 350 von SGI verfügbar, Flame 9 für die Tezro. Flint gibt es mit vollem Funktionsumfang ebenfalls für die SGI-Irix-Plattform. Ohne LUT und 3D-Auto-Tracker ist Flint 9 aber auch in einer Linux-Version verfügbar, die auf der IBM IntelliStation Z Pro läuft. Die neuen Systeme sollen in der zur Siggraph gezeigten Version voraussichtlich ab Herbst 2004 erhältlich sein.
Da Discreet zur Siggraph keine offiziellen Ankündigungen zum zukünftigen System Toxik macht, gehen Insider davon aus, dass dieses System während der IBC2004 im September eine größere Rolle spielen wird.
